为了确保电子信息安全，我们在制作电磁屏蔽室时提高其屏蔽作用是非常有必要的，因为所选用的制作材料会直接影响屏蔽作用，因而用户要根据制作规范进行合理的挑选。下面小编就来说说提高电磁屏蔽室屏蔽性能的方法，希望对您有所帮助。

　　1、屏蔽材料的导电性和导磁性越好，其屏蔽的效能就越高。但实践的金属材料不可能统筹这两个方面，例如铜的导电性很好，可是导磁性很差；铁的导磁性很好，可是导电性较差。应该使用什么材料，根据具体屏蔽首要依靠反射损耗、还是吸收损耗来决定是侧重导电性还是导磁性；

　　2、制作屏蔽室时提高反射的损耗。频率较低的时候，吸收损耗很小，反射损耗是屏蔽效能的首要机理，要尽提高反射损耗；

　　3、屏蔽室材料应当挑选磁导率较高的材料。反射损耗与辐射源的特性有关，关于电场辐射源，反射损耗很大；关于磁场辐射源，反射损耗很小。因而，关于磁场辐射源的屏蔽首要依靠材料的吸收损耗，应该选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。

　　4、屏蔽材料与辐射源的间隔。反射损耗与屏蔽体到辐射源的间隔有关，关于电场辐射源，间隔越近，则反射损耗越大；关于磁场辐射源，间隔越近，则反射损耗越小；正确判别辐射源的性质，决定它应该靠近屏蔽体，还是原理屏蔽体，是结构设计的一个重要内容。

　　5、选用高导电性材料和高导磁性材料。电场波是较为容易屏蔽的，平面波其次，磁场波是较难屏蔽的。尤其是（1KHz以下）低频磁场，很难屏蔽。关于低频磁场，要选用高导磁性材料，乃至选用高导电性材料和高导磁性材料复合起来的材料。

　　以上便是关于提高电磁屏蔽室屏蔽性能的方法介绍，相信大家已经有所了解了，若还有其他疑问，欢迎您来电咨询。